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希薄溶液~濃厚溶液でのゼータ電位測定が可能な装置です。 電気浸透流を実測し、高精度なゼータ電位測定を可能とした最小容量130µL~のディスポーザブルセルで測定が可能です。 また新たに0~90℃の幅広い温度範囲で、自動温度グラジエント測定をおこない変性・相転移温度解析が可能です。
特 長
最新型高感度APDにより感度アップと測定時間短縮を実現 (NEW) 自動温度グラジエント測定により変性・相転移温度解析が可能 (NEW) 0~90℃の広い温度範囲で測定が可能 (NEW) 懸濁した高濃度サンプルのゼータ電位測定に対応 セル内の電気浸透流を実測、プロット解析により高精度なゼータ電位測定結果を提供 高塩濃度溶液のゼータ電位測定に対応 小面積サンプルの平板ゼータ電位測定に対応 (NEW)
測定項目
ゼータ電位 -200 ~ 200 mV 電気移動度 -20×10 -4 ~ 20×10 -4 cm 2 /V・s ●測定範囲
測定温度範囲 0 ~ 90℃ 測定濃度範囲 ゼータ電位:0.001%~40% *1(Latex112nm: 0.001 ~ 10%、タウロコール酸: ~ 40%)
用途
界面化学、無機物、半導体、高分子、生物、薬学、医学分野などにおいて、微粒子のみならず、フィルムや平板状試料の表面科学を取り扱う基礎研究、応用研究に最適です。
新規機能性材料分野
燃料電池関連(カーボンナノチューブ、フラーレン、機能性膜、触媒、ナノ金属)
バイオナノ関連(ナノカプセル、デンドリマー、DDS、バイオナノ粒子)、ナノバブルなど
セラミックス・色材工業分野
セラミックス(シリカ・アルミナ・酸化チタンなど)
無機ゾルの表面改質・分散・凝集制御
顔料(カーボンブラック・有機顔料)の分散・凝集制御
スラリー状サンプル
カラーフィルター
浮遊選鉱物の捕集材吸着の研究
半導体分野
シリコンウェハー表面への異物付着のメカニズム解明
研磨剤や添加剤とウェハー表面との相互作用の研究
CMPスラリー
高分子・化学工業分野
エマルション(塗料・接着剤)の分散・凝集制御、ラテックスの表面改質(医薬用・工業用)
高分子電解質(ポリスチレンスルフォネート・ポリカルボン酸など)の機能性の研究、機能性ナノ粒子
紙・パルプの製紙工程制御およびパルプ添加材の研究
医薬品・食品工業分野
エマルション(食品・香料・医療・化粧品)の分散・凝集制御、タンパク質の機能性
リポソーム・ベシクルの分散・凝集制御、界面活性剤(ミセル)の機能性 ゼータ電位測定原理:電気泳動光散乱法(レーザードップラー法)
溶液中の粒子に電場をかけると、粒子が持つ電荷に応じた電気泳動が観測されるため、この電気泳動速度からゼータ電位・電気泳動移動度が求められます。 電気泳動光散乱法では、電気泳動している粒子に光を照射し、得られる散乱光のドップラーシフト量から電気泳動速度を求めるため、レーザードップラー法とも呼ばれています。
仕 様
測定原理 電気泳動光散乱法(レーザードップラー法) 光学系 ヘテロダイン光学系 光源 高出力半導体レーザー 検出器 高感度APD セル 標準セル、微量ディスポセルもしくは濃厚系セル 温度 0 ~ 90℃ (グラジエント機能あり) 電源 100V ± 10% 250VA 寸法(WDH) 380(W)×600(D)×210(H) 重量 約 22 kg
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